硅红外滤光片的特点

2013-11-04 admin1

　　硅红外滤光片旨在降低直拉硅单晶氧含量，提高硅红外滤光片透过率的硅片热处理工艺。其特征是将硅片在400-1000℃温度间的四段温区逐步升温并保温适当时间并在硅片冷却至850℃以下时取出，处理后的直拉硅单晶片在9um处的透过率接近或达到区熔硅单晶的水平，用热处理后的廉价直拉硅单晶片制造的红外滤光片，可满足红外仪器设备所需红外滤光片的要求，大大降低了滤光片的成本。

　　硅红外滤光片的热治理 生产工艺，涉及到硅片的切、磨、抛光剂和防腐蚀擦拭及热治理 用石英晶体炉管的HCl治理 ，它的本质特征就在于：1.在炉温底于400℃时，存入硅片，2.将炉温度升高至400-550℃，隔温层10-30小時;以后变热至700-800℃，隔温层10-30小時，再变热至800-900℃，隔温层2-5小時，接下来变热至900-1000℃，隔温层2-5小時，3.在炉温下降850℃下时，弄出来硅片。